مقایسه خواص ساختاری بس لایه های الکتروانباشت شده Co-Cu/Cu بر روی زیر لایه های Cu , Ti

نویسنده‌گان:
[ ایرج کاظمی نژاد ] - دانشگاه شهید چمران اهواز، دانشکده علوم، گروه فیزیک
[
مرجان ذاکرین ] - دانشگاه شهید چمران اهواز، دانشکده علوم، گروه فیزیک
خلاصه مقاله:
در این تحقیق بس لایه های Co-Cu/Cu به روش الکتروانباشت بر ری پلی کریستال Ti, Cu تهیه شدند. الکتروانباشت به صورت پتانسیواستات و در یک الکترولیت تک حمام حاوی نمک های سولفات Co , Cu با سه الکترود انجام شد. ریز ساختار این بس لایه ها توسط طیف XRD موردمطالعه قرار گرفت و در پایان با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی خواص سطحی نمونه های ساخته شده بر دو نوع زیر لایه Cu , Ti مورد بررسی و مطالعه قرار می گیرد.

کلید واژه ها: سایر موارد